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Artigo de periodico
Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films (1989)
Morimoto, Nilton Itiro ; Swart, Jacobus Willibrordus; Riella, Humberto Gracher
Source: Applied Surface Science. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro e SWART, Jacobus Willibrordus e RIELLA, Humberto Gracher. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Applied Surface Science, v. 38, n. 1-4, p. se 1989, 1989Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5. Acesso em: 05 maio 2024.
APA
Morimoto, N. I., Swart, J. W., & Riella, H. G. (1989). Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Applied Surface Science, 38( 1-4), se 1989. doi:10.1016/0169-4332(89)90517-5
NLM
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Applied Surface Science. 1989 ;38( 1-4): se 1989.[citado 2024 maio 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5
Vancouver
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Applied Surface Science. 1989 ;38( 1-4): se 1989.[citado 2024 maio 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5
Artigo de periodico
Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x (1988)
Swart, Jacobus Willibrordus; Riella, Humberto Gracher ; Morimoto, Nilton Itiro
Source: Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. Unidade: EP
Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, FILMES FINOS
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ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus e RIELLA, Humberto Gracher e MORIMOTO, Nilton Itiro. Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade, v. 1 , p. 127-39, 1988Tradução . . Acesso em: 05 maio 2024.
APA
Swart, J. W., Riella, H. G., & Morimoto, N. I. (1988). Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade, 1 , 127-39.
NLM
Swart JW, Riella HG, Morimoto NI. Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. 1988 ;1 127-39.[citado 2024 maio 05 ]
Vancouver
Swart JW, Riella HG, Morimoto NI. Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. 1988 ;1 127-39.[citado 2024 maio 05 ]
Trabalho de evento
Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x (1987)
Morimoto, Nilton Itiro ; Swart, Jacobus Willibrordus; Riella, Humberto Gracher
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro e SWART, Jacobus Willibrordus e RIELLA, Humberto Gracher. Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 05 maio 2024.
APA
Morimoto, N. I., Swart, J. W., & Riella, H. G. (1987). Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x. Anais. 1987 ;[citado 2024 maio 05 ]
Vancouver
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x. Anais. 1987 ;[citado 2024 maio 05 ]

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